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	1.	Kein Coverbild verfügbar Kein Coverbild verfügbar Revision des Gebrauchsmuster-Systems im Jahre 2005 in Japan von Hinkelmann, Klaus Enthalten in: Mitteilungen der deutschen Patentanwälte Jg. 97, Heft 3 (2006), Seite 105-108 Verfügbarkeit: Keine Exemplare verfügbar. Zum Korb hinzufügen (Entfernen)
	2.	Kein Coverbild verfügbar Kein Coverbild verfügbar Revision des Japanischen Gebrauchsmustergesetzes von Ohtsuka, Fumiaki Enthalten in Mitteilungen der deutschen Patentanwälte Jg. 84, Heft 5 (1993), Seite 132-134 Verfügbarkeit: Keine Exemplare verfügbar. Zum Korb hinzufügen (Entfernen)
	3.	Kein Coverbild verfügbar Kein Coverbild verfügbar The utility model system and ist benefits for China : some delibrations based on german and japanese legislation von Chen, Ruifang In: IIC. 141983,4,493-507 Verfügbarkeit: Keine Exemplare verfügbar. Zum Korb hinzufügen (Entfernen)
	4.	Kein Coverbild verfügbar Kein Coverbild verfügbar Das Gebrauchsmustersystem und sein Nutzen für China : einige Überlegungen anhand des deutschen und des japanischen Rechts von Ruifang, Chen Enthalten in: Gewerblicher Rechtsschutz und Urheberrecht : Internationaler Teil GRUR Int Heft 11 (1982), Seite 660-667 Verfügbarkeit: Keine Exemplare verfügbar. Zum Korb hinzufügen (Entfernen)

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